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【財(cái)新網(wǎng)】
9月6日，荷蘭政府發(fā)布有關(guān)浸潤(rùn)式 DUV光刻設(shè)備出口的最新許可證要求。該政策與美國(guó)的出口管制要求“對(duì)齊”，9月7日生效。同日，荷蘭光刻機(jī)廠商ASML（阿斯麥）回應(yīng)，“荷蘭政府更新出口許可要求后，ASML將需要向荷蘭政府而非美國(guó)政府申請(qǐng) TWINSCAN NXT：1970i和1980i型號(hào)浸潤(rùn)式DUV光刻系統(tǒng)的出口許可證。之前，荷蘭政府已經(jīng)開始對(duì)更先進(jìn)的TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)實(shí)施出口許可證要求。ASML EUV光刻系統(tǒng)的銷售也受到出口許可證要求的限制?！?/P>
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